用于激光直写灰度掩模的二元金属薄膜的制备及光学性质

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1兰州物理研究所,表面工程技术国家级重点实验室,甘肃,兰州,730000


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利用磁控溅射方法制备了Zn/Al二元金属薄膜,得出了制备Zn/Al二元金属薄膜的工艺参数.论述了其在激光直写灰度掩模中的应用.

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DOI: http://dx.doi.org/10.3969/j.issn.1006-7086.2009.01.001

语种: 中文   

基金表面工程技术国家级重点实验室基金(51418060305HT6007)

关键词二元金属薄膜 磁控溅射 激光直写 灰度掩模


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